郭一连续好几天都在A1厂出没，寻找这可以提升芯片制造工艺的关键点。

　　材料热膨胀相互的影响，光的衍射对于光刻的影响，线宽控制的几个常规改进，光学近距效应修正，硅片平台水平控制的关键因素，光刻胶涂胶工艺的改进……

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　　随着每天在工厂观摩推演芯片制造的整个流程，郭一的小本本上记满了各种可以对工艺有明显改进的方法。

　　“安叔，召集工程师们，开会。”

　　郭一虽...